NIR Plan Apo 50X/0.67 – Անսահմանորեն շտկված մետալուրգիական օբյեկտիվ՝ սիլիցիումային պատկերման և մանրաթելային լազերային գործընթացների մոնիթորինգի համար

NIR Plan Apo 50X/0.67-ը բարձրակարգ անվերջ շտկված ապոքրոմատիկ մանրադիտակի օբյեկտիվ է, որը հատուկ օպտիմիզացված է մոտ ինֆրակարմիր (NIR) կիրառությունների համար: 0.67 թվային ապերտուրայով (NA) և 10 մմ աշխատանքային հեռավորությամբ (WD) այն ապահովում է բացառիկ լուծաչափ (0.5 µm) և գերազանց NIR թափանցելիություն 380–700 նմ տեսանելի տիրույթում, ինչպես նաև 1064 նմ կարևոր ալիքի երկարությամբ՝ այն դարձնելով իդեալական սիլիցիումային թիթեղների հետևի մասի ստուգման, սիլիցիումի միջով անցնող (TSV) չափագիտության և մանրաթելային լազերային մշակման իրական ժամանակի մոնիթորինգի համար:

Հիմնական տեխնիկական բնութագրերը՝

• Մեծացում՝ 50X
• Թվային ապերտուրա (NA): 0.67
• Աշխատանքային հեռավորություն (WD): 10 մմ
• Ֆոկուսային հեռավորություն՝ 4 մմ
• Լուծաչափ՝ 0.5 մկմ
• Դաշտի խորություն (±DF): 0.75 µմ
• Առավելագույն տեսադաշտ՝ 0.5 մմ
• Քաշը՝ 430 գ
• Օպտիկական դիզայն. անվերջության շտկված, պլանային ապոքրոմատ (APO)
• Աշխատանքային ալիքի երկարություն՝ 380–700 նմ և 1064 նմ
• Ընկղմման միջավայր՝ օդ